Анализ тепловых процессов при обработке поверхности ускоренными потоками металлической плазмы

Кузнецов В.Г., Курбанов Т.А.

Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург

Ключевые слова: вакуумная дуга, катодное пятно, ионы, микрокапли, распыление, конденсация, катод.

Аннотация. Применительно к условиям взаимодействия ускоренных потоков металлической плазмы с металлической поверхностью анализируется влияние температуры катода вакуумно-дугового испарителя, напряжения отрицательного смещения на подложке с учетом конденсации микрокапельной фракции на процесс распыления поверхностного слоя. Получено выражение, позволяющее оценить скорость распыления поверхностного слоя в зависимости от температуры катода. Использование полученных зависимостей позволяет выбрать необходимую длительность процесса ионной очистки с учетом толщины используемого катода.