Влияние вакуумно-дуговой технологии на равномерность наносимых покрытий по толщине
Кузнецов В.Г.
ФГБУН Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург
Ключевые слова: напряжения, деформации, адгезия, вакуумная дуга, катодное пятно, плазменный поток, покрытие, поверхность, ионная очистка.
Аннотация. Применительно к условиям взаимодействия ускоренных потоков металлической плазмы с металлической подложкой анализируется площадь поверхности, которая может быть покрыта однородным по толщине покрытием. При этом учитывается, что покрытие формируется за счет ионного потока, нейтрального пара и микрокапельной фракции. Основным фактором, ограничивающим размер обрабатываемых подложек, является размер зоны, за пределами которой невозможно проведение ионной очистки.